Semiconductor photoresist သည် အရေးတကြီးပေးဝေနေပါသည်။ဂျပန်မြေငလျင်ကွင်းဆက်တုံ့ပြန်မှုတွင် TSMC နှင့် UMC တို့သည်လည်း မငြိမ်မသက်ဖြစ်နေကြောင်း ပြသသည်) ဂျပန်နိုင်ငံအရှေ့မြောက်ပိုင်းတွင် 213 ငလျင်လှုပ်ခတ်မှုကြောင့် စျေးကွက်၏ 80% ခန့်ကို ဂျပန်စီးပွားရေးလုပ်ငန်းရှင်များလွှမ်းမိုးထားသည့် အဓိကစားသုံးနိုင်သော photoresist ဖြစ်သည့် photoresist များ အရေးပေါ်ထောက်ပံ့မှုဖြစ်ပေါ်စေခဲ့သည်။Xinyue ကဲ့သို့သော အဓိကရောင်းချသူများ၏ ထုတ်လုပ်မှုနှင့် ပြည်ပထောက်ပံ့ရေးပစ္စည်းများကို ပိတ်ဆို့ခဲ့ပြီး Shinyue မှပင် စက်ရုံပိတ်သိမ်းကြောင်း ကြေညာခဲ့သည်။TSMC နှင့် UMC ကဲ့သို့သော ကြီးမားသော wafer ကုမ္ပဏီများသည် ထိုင်ဝမ်၊ တရုတ်တွင် တိုက်ရိုက်ထုတ်လုပ်မှုနှင့် ထောက်ပံ့မှုကို အရှိန်မြှင့်ရန် ဂျပန်ထုတ်လုပ်သူများကို တိုက်တွန်းခြင်းဖြင့် အန္တရာယ်ကို ပျံ့နှံ့စေသည်။

ထိုင်ဝမ်၏ စီးပွားရေးနေ့ မှတ်တမ်းအရ ဂျပန်နိုင်ငံ အရှေ့မြောက်ပိုင်းတွင် အင်အား 213 ရှိသော ငလျင်လှုပ်ခတ်မှုကြောင့် ထုတ်လုပ်မှုနှင့် ပြည်ပရောင်းလိုအား ပြတ်တောက်ခြင်းအပါအဝင် စျေးကွက်၏ 80% ခန့်တွင် ဂျပန်စီးပွားရေးသမားများက အဓိကစားသုံးနိုင်သော photoresist များ အရေးပေါ်ထောက်ပံ့မှုဖြစ်စေခဲ့သည်။ Xinyue ကဲ့သို့သော အဓိကရောင်းချသူများမှShinyue သည် စက်ရုံပိတ်သိမ်းရန်ပင် ကြေညာခဲ့သည်။TSMC နှင့် UMC ကဲ့သို့သော ကြီးမားသော wafer ကုမ္ပဏီများသည် ထိုင်ဝမ်၊ တရုတ်တွင် တိုက်ရိုက်ထုတ်လုပ်မှုနှင့် ထောက်ပံ့မှုကို အရှိန်မြှင့်ရန် ဂျပန်ထုတ်လုပ်သူများကို တိုက်တွန်းခြင်းဖြင့် အန္တရာယ်ကို ပျံ့နှံ့စေသည်။

photoresist သည် semiconductors ၏အဓိကစားသုံးနိုင်သောပစ္စည်းများအဖြစ် wafer အထွက်နှုန်းနှင့်အရည်အသွေးကိုတိုက်ရိုက်အကျိုးသက်ရောက်သည်ဟုနားလည်ထားသည်။ဇန်နဝါရီ 2019 ခုနှစ်တွင် TSMC သည် သာမန်ထက်သာလွန်သော photoresist ကိုအသုံးပြုခဲ့ပြီး wafer ပေါင်း 100,000 နီးပါးကို ဖျက်သိမ်းခဲ့ပြီး ဝင်ငွေ၏ 15 ဘီလီယံယွမ်နီးပါးကို ထိခိုက်ခဲ့ပြီး wafer ထုတ်လုပ်မှုတွင် photoresist ၏အရေးကြီးမှုကို မီးမောင်းထိုးပြခဲ့သည်။အခင်းဖြစ်ပွားပြီးနောက် TSMC သည် အရည်အသွေးထိန်းချုပ်မှုနှင့် အဓိကပစ္စည်းများ၏ ပံ့ပိုးမှုဆိုင်ရာလိုအပ်ချက်များကို အလွန်တိုးမြှင့်ခဲ့သည်။

လက်ရှိတွင် ကမ္ဘာလုံးဆိုင်ရာ photoresist စျေးကွက်ကို ဂျပန်ထုတ်လုပ်သူများမှ လွှမ်းမိုးထားပြီး စျေးကွက်၏ 80% တွင် ဈေးနှုန်းအတက်အကျ အနည်းငယ်ရှိသည်။၎င်းတို့အနက် 20% ကျော်ကို Shinyue မှ စီစဉ်ပေးထားပြီး ထိုင်ဝမ်ရှိ ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်ရုံများ၏ အဆင့်မြင့်နှင့် လုပ်ငန်းစဉ်သစ် 50% ကျော်သည် Xinyue ၏ photoresist ထုတ်ကုန်များကို အသုံးပြုပါသည်။JSR၊ Dongying စသည်တို့ အပါအဝင် အခြားနာမည်ကြီး ဂျပန်ရောင်းချသူများ၊ Sumitomo Chemical နှင့် Fuji Film တို့မှလည်း တက်ကြွစွာ ပါဝင်ပါသည်။

photoresist အသိအမှတ်ပြုလက်မှတ်ရပြီးပါက ထုတ်လုပ်မှုလိုင်းအား ပြန်လည်သန့်စင်ပြီး ထုတ်လုပ်မှုကို ထိခိုက်မှုမဖြစ်စေရန် တစ်နှစ်ပတ်လုံး ပြောင်းလဲလေ့ရှိသောကြောင့် ပစ္စည်းကိုဆုံးဖြတ်ပြီးနောက် ပြောင်းလဲရန်မလွယ်ကူကြောင်း ထောက်ပြခဲ့ပြီး လိုအပ်ချက်အရ ညှိနှိုင်းလေ့ရှိပါသည်။ ယခင်နှစ်က အပြောင်းအလဲ ဖြစ်ပေါ်လာပါက ထုတ်လုပ်မှု အရည်အသွေး ထိခိုက်မည် ဖြစ်သည်။မကြာသေးမီက၊ တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးကိရိယာများ ထောက်ပံ့မှုမှာ ဝယ်လိုအား နည်းပါးသွားကာ photoresist ၏ ထောက်ပံ့မှု ရှားပါးလာသောကြောင့်၊ တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း ပြတ်လပ်မှုသည် ပိုမိုဆိုးရွားလာနိုင်သည်။

အလားတူ ဇာတ်ကွက်တစ်ခုကို ထပ်ခါထပ်ခါ ပြုလုပ်သည်။ဂျပန်နိုင်ငံ၏ မြေငလျင်လိပ်ပြာအကျိုးသက်ရောက်မှုသည် အတိုင်းအတာတစ်ခုအထိ သက်ရောက်မှုရှိနိုင်သည်။

လက်ရှိကမ္ဘာ့တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်ရေး၏ အဓိကနေရာဖြစ်သည့်အလျောက် စက်မှုလုပ်ငန်းသည် သမိုင်းတစ်လျှောက် အကြီးမားဆုံးပြတ်လပ်မှုအကျပ်အတည်းကို ကြုံတွေ့နေရသည်ဟု အခိုင်အမာယူဆကာ ဂျပန်နိုင်ငံ၏ ငလျင်ကြောင့် ဖြစ်ပေါ်လာသော လိပ်ပြာအကျိုးသက်ရောက်မှုသည် မျှော်လင့်ထားသည်ထက် ပိုမိုကျယ်ပြန့်လာမည်ဖြစ်သည်။

SEMI ၏ အဆိုအရ ဂျပန်ကုမ္ပဏီများသည် ကမ္ဘာလုံးဆိုင်ရာ တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းဈေးကွက်၏ ၅၂ ရာခိုင်နှုန်းနှင့် စက်ကိရိယာများ ထုတ်လုပ်မှုတွင် ၃၀ ရာခိုင်နှုန်းခန့်ရှိသည်။ဂျပန်နိုင်ငံ၏ပြည်တွင်းတစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းလုပ်ငန်းဖြန့်ဖြူးရေးအမြင်အရ၊ ဂျပန်တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းလုပ်ငန်းသည် Kanto၊ Tohoku နှင့် Kyushu တို့တွင် အဓိကအားဖြင့် အာရုံစိုက်နေပြီး Shinyue Chemical၊ SUMCO၊ Renesa Electronics၊ Shexia၊ Sony နှင့် ဂျပန်နိုင်ငံရှိ အခြားပြည်တွင်းထုတ်လုပ်မှုအခြေစိုက်စခန်းများသည် အထက်ပါနေရာတွင် အဓိကအားဖြင့် တည်ရှိသည်။ - ဖော်ပြထားသောနေရာများ။

မတ်လ 11 ရက် 2011 ရက်နေ့တွင် ဂျပန်နိုင်ငံ အရှေ့မြောက်ပိုင်း ပစိဖိတ်သမုဒ္ဒရာတွင် အင်အားပြင်းငလျင်တစ်ခု လှုပ်ခတ်ခဲ့ပြီး ဂျပန်နိုင်ငံ အရှေ့မြောက်ပိုင်းရှိ Iwate၊ Miyagi နှင့် Fukushima စီရင်စုများတွင် ကြီးမားသော ဆူနာမီတစ်ခု ဖြစ်ပေါ်ခဲ့ပြီး Fukushima Daiichi နျူကလီးယား ဓာတ်အားပေးစက်ရုံတွင် နျူကလီးယား ယိုစိမ့်မှု ဖြစ်ပေါ်ခဲ့သည်။ကြီးမားသော ဓာတ်အားပြတ်တောက်မှုနှင့် ယာဉ်ကြောပိတ်ဆို့မှုများကြောင့် ဂျပန်နိုင်ငံရှိ ဆီမီးကွန်ဒတ်တာများ ထုတ်လုပ်မှုအပေါ် ကြီးမားသော သက်ရောက်မှုရှိခဲ့သည်။

ထိုအချိန်တွင် Shinyue Chemical သည် Fukushima ရှိ စက်ရုံနှစ်ရုံတွင် ထုတ်လုပ်မှုကို ရပ်တန့်ခဲ့ပြီး ထိုအချိန်က ကမ္ဘာလုံးဆိုင်ရာ wafer ပမာဏ၏ 25 ရာခိုင်နှုန်းခန့်၊Renesas စက်ရုံ ၇ ရုံသည် ထုတ်လုပ်မှုကို ယာယီပိတ်ခဲ့ပြီး စွမ်းဆောင်ရည်၏ ၄၀ ရာခိုင်နှုန်းခန့် ပျက်စီးခဲ့သည်။Toshiba၊ Fujitsu၊ TI၊ Senmei နှင့် အခြား လုပ်ငန်းများလည်း ထိခိုက်ခဲ့သည်။မြေငလျင်ဆူနာမီကြောင့် ထောက်ပံ့ရေးကွင်းဆက်ပြတ်တောက်မှုသည် ပစ္စည်းများဖမ်းယူခြင်းကဲ့သို့သော လုပ်ငန်းများတွင် မငြိမ်မသက်ဖြစ်စေပြီး DRAM၊ NAND၊ MCU စသည်တို့အပါအဝင် အစိတ်အပိုင်းအမျိုးမျိုး၏စျေးနှုန်းများ တက်လာခဲ့သည်။

ငလျင်၏လွှမ်းမိုးမှုအောက်တွင် Xinyue ဓာတုစက်ရုံအချို့ကို ဆိုင်းငံ့ထားသည်။အခြား wafer ထုတ်လုပ်သူ SUMCO သည် Kyushu တွင် အဓိက အခြေစိုက်ပြီး အရှေ့မြောက်ဘက်တွင် ညံ့ဖျင်းသော အပင်တစ်ခုရှိသည်။Mizawa စက်ရုံနှင့် Takazaki စက်ရုံတို့၏ လည်ပတ်မှုအား ထိခိုက်ခြင်းမရှိကြောင်းနှင့် Ibaraki Naka စက်ရုံသည် အချိန်တိုအတွင်း အလုပ်ရပ်ဆိုင်းခဲ့ပြီး 16 ရက်နေ့တွင် ရှေ့တန်းကုန်ထုတ်လုပ်မှု လုပ်ငန်းစဉ်များကို တဖြည်းဖြည်း ပြန်လည်စတင်ခဲ့ကြောင်း၊ - တစ်ပတ်အတွင်း ငလျင်လှုပ်နိုင်မှု။

Bank of China Securities ၏ Zhao Qi အဖွဲ့မှ လက်ရှိတွင် ငလျင်၏သက်ရောက်မှုသည် မတ်လ 11 ရက် 2011 ခုနှစ် ငလျင်ထက် များစွာ သေးငယ်သော်လည်း ကမ္ဘာလုံးဆိုင်ရာ ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ စွမ်းရည်ပြတ်လပ်မှု အခြေအနေတွင် ဂျပန်နိုင်ငံ၏ ငလျင်ကြောင့် ဖြစ်ပေါ်လာသော နှောက်ယှက်မှုများ၊ စက်မှုကွင်းဆက်သည် အထူးသဖြင့် မော်တော်ယာဥ်ချစ်ပ်များ စွမ်းရည်တင်းမာမှုကို ပိုမိုဆိုးရွားစေနိုင်သည်။

photoresist ၏ layout နှင့်သက်ဆိုင်သော A-share ကုမ္ပဏီများ

ပြည်တွင်းဓာတ်ပုံresist နည်းပညာ၏ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုအဆင့်အရ၊ လက်ရှိတွင် ပြည်တွင်း g-line နှင့် I-line photoresist ၏ ဖူလုံနှုန်းမှာ KRF photoresist ၏ 20% ထက်နည်းသော်လည်း ARF photoresist သည် 12 လက်မအတွက် သင့်လျော်ပါသည်။ silicon wafers များသည် အခြေခံအားဖြင့် တင်သွင်းမှုအပေါ်တွင်မူတည်ပြီး photoresist ၏ဒေသခံအဖြစ်ပြောင်းလဲခြင်းသည် သွားရမည့်လမ်းအရှည်ကြီးဖြစ်သည်၊ ထို့ကြောင့် "ချောင်းကပ်နေသောလည်ပင်း" ၏နောက်ပြန်အခြေအနေကို အမြန်ဆုံးဖြတ်ကျော်ရန် အလွန်အရေးကြီးပါသည်။

Jingrui (300655) သည် Suzhou သို့ တင်ပို့ပြီး ကုမ္ပဏီ၏ အဆင့်မြင့် photoresist သုတေသနနှင့် ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေး ဓာတ်ခွဲခန်းသို့ တင်သွင်းသည့် ကိုယ်စားလှယ်မှတစ်ဆင့် ASMLXT1900G lithography စက်ကို အောင်မြင်စွာ ဝယ်ယူခဲ့ကြောင်း ဇန်နဝါရီ ၁၉ ရက် ညနေတွင် ကြေညာခဲ့သည်။

Nanda Optoelectronics (300346) သည် ယမန်နှစ် ဒီဇင်ဘာလတွင် ကြေညာခဲ့ပြီး၊ Ningbo Nanda Optoelectronics ၏ လက်အောက်ခံ ArF photoresist ထုတ်ကုန်များကို သီးခြားလွတ်လပ်စွာ တီထွင်နိုင်ခဲ့ပြီး ဖောက်သည်ထောက်ခံချက်လက်မှတ်ကို မကြာသေးမီက အောင်မြင်စွာ အောင်မြင်ခဲ့ပြီး၊ ထုတ်ကုန်စစ်ဆေးခြင်းမှတစ်ဆင့် ပထမဆုံးပြည်တွင်း ArF photoresist ဖြစ်လာခဲ့သည်။

Tongcheng New Materials (603650) သည် ၎င်း၏ လက်အောက်ခံ Tongcheng Electronics မှ နှစ်စဉ် ထုတ်လုပ်မှု 11000 တန် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း တန်ချိန် 11000 တန် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း ၊ ပြားချပ်ချပ် မျက်နှာပြင် အတွက် photoresist နှင့် ဆက်စပ် တန်ချိန် 20,000 နှင့် ဆက်စပ် ပစ္စည်း တန်ချိန် 20, 000 ကို တည်ဆောက်ရန် စီစဉ်နေကြောင်း၊ ရှန်ဟိုင်းဓာတုစက်မှုဇုန်ရှိ ဓာတ်ပစ္စည်းများကို 2021 နှစ်ကုန်ပိုင်းတွင် အပြီးသတ်ပြီး ထုတ်လုပ်နိုင်မည်ဟု မျှော်လင့်ထားသည်။

အရင်းအမြစ်-သိပ္ပံနှင့်နည်းပညာဆန်းသစ်တီထွင်မှုဘုတ်အဖွဲ့နေ့စဉ်သူ Luheng